1. 等离子（离子）氮化（常用）

真空炉内工件做阴极，氮气电离成氮离子，离子轰击物理剥离氧化膜，无需复杂预镀金属，氮化温度 480–550℃，保温 3–8h。

• 流程：除油水洗→酸蚀活化→真空离子轰击活化→渗氮→随炉缓冷

• 优势： ① 自清洁氧化膜，预处理简单； ② 渗层致密、结合力高、摩擦系数低（0.08–0.15）； ③ 无氢脆、工件变形小； ④ 可处理深孔、复杂型腔，死角均匀；

• 典型性能：表层硬度800–1200HV，渗层 3–15μm；Al-Cu 系合金渗层可达 100μm 级别，纯铝仅 3–5μm。

2. 气体氮化（氨气氮化，低成本）

炉内通 NH₃高温分解产活性氮；必须预浸锌 / 预镀 Fe/Ti，锌 / 铁中间层破坏氧化铝、充当氮扩散通道，温度 530–580℃，5–12h。

• 预处理关键：两次浸锌 + 硝酸退锌，去除原生氧化膜并形成过渡层；

• 优点：设备通用（钢氮化炉改造即可）、批量大、成本低；

• 缺点：工艺繁琐、氨气污染、渗层均匀性差、变形略大。

3. 液体盐浴氮化（熔盐渗氮）

氰酸盐 / 氨基熔盐 580–610℃浸泡 1–5h，同样配套浸锌活化预处理。

• 优势：升温快、批量大、小件均匀；

• 短板：盐浴有毒、废水处理成本高、工件易挂盐渍，民用逐步淘汰。

4. 离子注入氮化（精密微件）

高能氮离子直接注入表层，温度低（≤200℃），几乎无变形；渗层极薄（<1μm），仅用于 mems="">

5. 复合预镀氮化（高镁 / 高硅难氮化合金）

ADC12、5083 等高硅、高镁铝：先溅射 Ti/Fe 缓冲层，再离子氮化，抑制 MgO 阻隔层，硬度最高可达 880HV，磨损率大幅下降。